P04200 - SEMI P42 - Specification of Reticle Data for Automatic Recipe Transfer to Wafer Exposure System StdPbc-0812 参考までに，米国で通常使われている単位が2インチおよび3インチウェーハには用いられ，SI（メートル）単位が100 mm以上のウェーハには使われている。

参考までに，米国で通常使われている単位が2インチおよび3インチウェーハには用いられ，SI（メートル）単位が100 mm以上のウェーハには使われている。

and the existing standards for performing these tests are referenced

1-0707 - 装置性能トラッキング（EPT）のSECS-II プロトコル仕様

In addition

This method focuses on improving the accuracy and repeatability of the measurement by standardizing the test conditions and reporting and by routine calibration of the measurement

P04200 - SEMI P42 - Specification of Reticle Data for Automatic Recipe Transfer to Wafer Exposure System StdPbc-0812 参考までに，米国で通常使われている単位が2インチおよび3インチウェーハには用いられ，SI（メートル）単位が100 mm以上のウェーハには使われている。This specification was technically approved by the Global Micropatterning Committee and is the direct responsibility of the Japanese Micropatterning Committee. Current edition approved by the Japanese Regional Standards Committee on January 9, 2004. Initially available at www. semi. org February 2004; to be published March 2004. NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not